详情介绍

Hitachi SU5000 FE-SEM
高性能电子光学系统 :
• 二次电子分辨率 _ 顶位二次电子探测器 (2.0 nm at 1 kV) 。
• 高灵敏度 _ 高效PD-BSD, 超强的低加速电压性能，低至100 V成像。
• 大束流 (>200 nA) _ 便于高效微区分析。
性能优异 :
• 压力可变 _ 具有优异的低真空(10-300 Pa)成像性能，
配备高灵敏度低真空探测器 (UVD) 
• 开仓室快速简单换样(样品尺寸：Ф200 mm x 80 mmH)。

• 微区分析 _ EDS，WDS，EBSD等等

主要技术规格
1.2 nm @30 kV(SE)
3.0 nm @1 kV(SE)
2.0 nm @1 kV(SE) 减速模式
3.0 nm @15 kV(BSE) 低真空模式 
X
Y
Z
T
R
典型的安装布局图 (单位 : mm)
主机 操作台
526
机械泵
重块
空压机
225
3,200
400
230
2,800
600 或以上 740 1,100
1,200
1,000
1,120
180
200
10～600,000x (底片倍率), 18～1,000,000x (800x600 像素)/30～1,500,000x(1,280x960 像素)
ZrO/W 肖特基式电子枪
0.5～30 kV (0.1 kV 步进)
减速模式：0.1～2.0 kV 
>200 nA
低位二次电子探测器
真空范围：10～300 Pa
5-轴自动（优中心）
0～100 mm
0～50 mm
3～65 mm
-20～90 °
360 °
直径：200 mm
高度：80 mm
23寸 LCD（1,920×1,080 像素）
1,280×960 像素
800×600 像素
640×480 像素
640×480 像素
640×480、 1,280×960、 2,560×1,920、 5,120×3,840
740(W）x 1,000(D) x 1,650(H) mm 550 kg
1,100(W）x 1,120(D) x 730(H) mm 290 kg
526(W）x 225(D) x 306(H) mm 28 kg
400(W）x 230(D) x 520(H) mm 18 kg
200(W）x 180(D) x 160(H) mm 40 kg
显示器
显示模式
图像数据保存
体积与重量
*选配 1: 减速功能（包含高分辨率顶位二次电子探测器） *选配 2 : 低真空功能（包含5分割半导体探测器） *选配 3: 空压机(本地采购)
选配探测器 高分辨率顶位二次电子探测器 
高灵敏度低真空探测器.（UVD）
5分割半导体探测器（PD-BSD）
能谱仪 (EDS)
波谱仪 (WDS)
背散射电子衍射探测器 (EBSD）