离子研磨仪
产品型号：IM4000II
简介介绍：日立离子研磨仪标准机型IM4000Ⅱ能够进行截面研磨和平面研磨。还可通过低温控制及真空转移等各种选配功能，针对不同样品进行截面研磨
详情介绍
日立离子研磨仪标准机型IM4000Ⅱ能
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主要内容
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使用气体
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氩气
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氩气流量控制方式
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质量流量控制
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加速电压
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0.0 ～ 6.0 kV
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尺寸
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616(W) × 736(D) × 312(H) mm
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重量
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主机53 kg＋机械泵30 kg
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截面研磨
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研磨速度（Si材料）
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500 µm/h*1以上
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样品尺寸
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20(W）×12(D）×7（H）mm
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样品移动范围
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X±7 mm、Y 0 ～+3 mm
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离子束间歇加工功能
开启/关闭 时间设定范围
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1秒 ～ 59分59秒
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摆动角度
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±15°、±30°、±40°
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广域截面研磨功能
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-
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平面研磨
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加工范围
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φ32 mm
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样品尺寸
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Φ50 X 25 (H) mm
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样品移动范围
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X 0～＋5 mm
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离子束间歇加工功能
开启/关闭 时间设定范围
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1秒 ～ 59分59秒
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旋转速度
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1 rpm、25 rpm
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摆动角度
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±60°、± 90°
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倾斜角度
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0 ～ 90°
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项目
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内容
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低温控制功能*²
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通过液氮间接冷却样品，温度设定范围：0°C ～ －100°C
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超硬遮挡板
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使用时间约为标准遮挡板的2倍（不含钴）
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加工过程观察用显微镜
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放大倍数 15× ～ 100× 双目型、三目型（可装CCD）
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